主要特點(diǎn):
高分辨觀察
利用金顆粒保證0.144nm分辨率DF-STEM像（標(biāo)準(zhǔn)型）集成技術。
大束流分析
約為非校正的STEM探針電流的10倍就能壓製，可以進(jìn)行高速、高靈敏度能譜分析適應能力，可以在更短的時間內(nèi)獲得元素的面分布圖更優美，使得檢測微量元素成為可能。
簡化的操作
提供了的GUI自動調(diào)節(jié)球差校正器
整體的解決方案
樣品桿與日立FIB兼容足了準備，提供了納米尺度的整體解決方案合作關系，從制樣到數(shù)據(jù)獲得和終分析
多種評價和分析功能可選
可同時獲得和顯示SE&BF、SE&DF深刻內涵、BF&DF傳遞、DF/EDX和DF/EELS像融合；可以配備ELV-2000型實時元素Mapping系統(tǒng)(DF-STEM像可以同時獲得)；可以同時觀察DF-STEM像和衍射像相關性；可以配備超微柱頭樣品桿進(jìn)行三維分析(360度旋轉(zhuǎn))等完成的事情。
項目 | 主要參數(shù) |
電子槍 | 冷場或熱場發(fā)射電子槍 |
加速電壓 | 200kV、120kV* |
線分辨率 | 0.144nm（標(biāo)準(zhǔn)型穩定，配有球差改造層面、冷場或熱場） |
0.136nm（高分辨型，配有球差優勢與挑戰、冷場） |
0.204nm（標(biāo)準(zhǔn)型經驗分享，配有熱場，無球差） |
放大倍率 | 200x - 10,000,000x |
圖像模式 | BF-STEM相襯度像(TE像)趨勢、DF-STEM原子序數(shù)襯度像(ZC像)有力扭轉、二次電子像(SE像)、電子衍射花樣(可選)一站式服務、特征X射線像(可選：EDX)廣度和深度、EELS像(可選：ELV-2000) |
電子光學(xué) | 電子槍：冷場或熱場發(fā)射電子槍，內(nèi)置陽極加熱器 透鏡系統(tǒng)：兩級聚光鏡引領作用、物鏡加強宣傳、投影鏡 球差校正器：六極/傳輸 雙重（標(biāo)準(zhǔn)型和高分辨型） 掃描線圈：兩級電磁線圈 電位移：±1μm |
樣品桿 | 側(cè)插式，X=Y=±1mm用的舒心，Z=±0.4mm 技術發展，T=±30°(單傾樣品桿) |
應(yīng)用領(lǐng)域: HD-2700作為一款場發(fā)射球差校正的掃描透射電鏡，不僅具有高分辨率的圖像觀察能力深入開展，同樣具有高空間分辨率的分析能力提供有力支撐，配合EELS和EDS可以實現(xiàn)原子級元素的分析。HD-2700具有多種成像模式建議，可以滿足大部分樣品的觀察需求品率，其中日立*的SE成像模式可以獲得透射電鏡無法獲得的樣品表面的信息，同時又比普通掃描電鏡具有更高的分辨率不斷發展，可以實現(xiàn)對樣品表面的高分辨觀察積極影響。
應(yīng)用文章：
[1] Ciston1,J., Brown2, H. G., D`Alfonso2, A. J., Koirala3,P., Ophus1, C., Lin3, Y., Suzuki4, Y., Inada5,H., Zhu6, Y. & Marks3, L. D. Surface determinationthrough atomically resolved secondary electron imaging.Nature Communications,2005,6, 7358-7365.
[2] Zhu1*,Y., Inada2, H., Nakamura2, K. & Wall1, J. Imagingsingle atoms using secondary electrons with an aberration-corrected electronmicroscope.Nature Materials,2009,8, 808-812.
