QL-5800E型全譜直讀光譜儀
QL-5800E型全譜直讀光譜儀采用真空光室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源敢於挑戰。這款CMOS光譜儀，既包含了CCD光譜儀的全譜特性建立和完善，又具備PMT光譜儀對(duì)非金屬元素提供了遵循，整機(jī)設(shè)計(jì)合理，操作簡(jiǎn)單易學(xué)產業，具有數(shù)據(jù)標(biāo)準(zhǔn)滿意度，長(zhǎng)期穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn)。
QL-5800E型全譜直讀光譜儀應(yīng)用領(lǐng)域
冶金可持續、鑄造主要抓手、機(jī)械、科研構建、商檢創新科技、汽車、石化共創輝煌、造船具有重要意義、電力、航空大部分、核電強大的功能、金屬和有色冶煉實際需求、加工和回收工業(yè)中的各種分析。
可檢測(cè)基體
鐵基優勢、銅基善謀新篇、鋁基、鎳基便利性、鈷基方法、鎂基、鈦基提供有力支撐、鋅基發揮作用、鉛基、錫基逐步顯現、銀基銘記囑托。
QL-5800E型全譜直讀光譜儀主要技術(shù)參數(shù)
v 光學(xué)系統(tǒng)：帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
v 波長(zhǎng)范圍：140~680nm
v 光柵焦距：401mm
v 探 測(cè) 器：高性能CMOS陣列/CCD陣列
v 光源類型：數(shù)字光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）
v 放電頻率：100-1000Hz
v 工作電源：AC220V 50/60Hz 1000W
v 儀器尺寸：780*565*360mm
v 儀器重量：78kg
v 檢測(cè)時(shí)間：依據(jù)樣品類型而定傳遞，一般20S左右
v 電極類型：鎢材噴射電極
v 分析間隙：4mm
v 其他功能：真空試驗，溫度，軟件自動(dòng)控制開展攻關合作；壓力，通訊監(jiān)測(cè)
全譜直讀光譜儀 光譜分析儀主要特點(diǎn)
v 高性能光學(xué)系統(tǒng)
采用CMOS元件可測(cè)定非金屬元素如C預下達、P的有效手段、S、As方案、B關鍵技術、N以及各種金屬元素含量；測(cè)定結(jié)果重復(fù)性及穩(wěn)定性深入。
v 自動(dòng)光路校準(zhǔn)
自動(dòng)光路校準(zhǔn)技術研究，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，接收的正確性開展研究，免除繁瑣的波峰掃描工作姿勢；
儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比，確定漂移位置首要任務，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定綠色化。
v 插拔式透鏡設(shè)計(jì)
真空光學(xué)系統(tǒng)采用入射窗與真空隔離，可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進(jìn)行操作發展，光學(xué)透鏡采用插拔式透鏡結(jié)構(gòu)保持穩定，日常清洗維護(hù)方便快捷。
v 真空防返油技術(shù)
多級(jí)隔離的真空防返油技術(shù)面向，采用真空壓差閥門保證真空泵不工作時(shí)真空光室與真空*隔離支撐作用；中間增加了真空濾油裝置研學體驗，真空泵中油不進(jìn)入真空室，保障CMOS檢測(cè)器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作最為突出。
v 開放式激發(fā)臺(tái)
開放式激發(fā)臺(tái)機(jī)靈活的樣品夾設(shè)計(jì)落實落細，以滿足客戶現(xiàn)場(chǎng)的各種形狀大小的樣品分析；配合使用小樣品夾具發展目標奮鬥，線材低分析可達(dá)到3mm通過活化。
v 噴射電極技術(shù)
采用噴射電極技術(shù)，使用鎢材料電極的特點，在激發(fā)狀態(tài)下健康發展，電極周圍會(huì)形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過(guò)程中激發(fā)點(diǎn)周圍不會(huì)與外界空氣接觸大數據，提高激發(fā)長效機製；配上*氬氣氣路設(shè)計(jì)，大大降低了氬氣使用量數字技術，也降低客戶使用成本奮戰不懈。
v 集成氣路模塊
氣路系統(tǒng)采用氣路模塊免維護(hù)設(shè)計(jì)，替代電磁閥和流量計(jì)措施，電極自吹掃功能大大縮短，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。
v 數(shù)字化激發(fā)光源
數(shù)字激發(fā)光源緊密相關，采用等離子激發(fā)光源更默契了，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品；可任意調(diào)節(jié)光源的各項(xiàng)參數(shù)培訓，滿足各種不同材料的激發(fā)要求不合理波動。
v 高速數(shù)據(jù)采集
儀器采用高性能CMOS檢測(cè)元件，具有每塊CMOS單獨(dú)超高速數(shù)據(jù)采集分析功能重要工具，并能自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)控制光室溫度積極拓展新的領域、真空度、氬氣壓力更優質、光源相對開放、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀態(tài)。
v 以太數(shù)據(jù)傳輸
計(jì)算機(jī)和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議技術創新，避免電磁干擾深入交流研討，光纖老化的弊端，同時(shí)計(jì)算機(jī)和打印機(jī)*外置廣泛應用，方便升級(jí)和更換關註度；可以遠(yuǎn)程監(jiān)控儀器狀態(tài)，多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)。
v 預(yù)制工作曲線
備有不同材質(zhì)和牌號(hào)的標(biāo)樣庫(kù)敢於挑戰，儀器出廠時(shí)工廠預(yù)制工作曲線不斷創新，方便安裝調(diào)試和及時(shí)投入生產(chǎn)；根據(jù)元素和材質(zhì)對(duì)應(yīng)的分析程序而稍有差異讓人糾結，激發(fā)和測(cè)試參數(shù)儀器出廠時(shí)已經(jīng)調(diào)節(jié)好規模，根據(jù)分析程序可自動(dòng)選擇測(cè)試條件。
v 分析速度快
分析速度快基石之一，僅需20秒即可完成一次分析聯動；針對(duì)不同的分析材料，通過(guò)設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及測(cè)量時(shí)間共同努力，使儀器用時(shí)間達(dá)到分析效果行業內卷。
v 多基體分析
光路設(shè)計(jì)采用羅蘭圓結(jié)構(gòu)，檢測(cè)器上下交替排列逐漸完善，保證接收全部的譜線參與能力，不增加硬件設(shè)施，即可實(shí)現(xiàn)多基體分析是目前主流；便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類和分析元素（無(wú)硬件成本）充分發揮。
v 軟件中英文系統(tǒng)
儀器軟件操作簡(jiǎn)單，*兼容于Windows7/8/10系統(tǒng)充分發揮。
