徠卡低真空鍍膜儀Leica EM ACE200
樣品進(jìn)行掃描電鏡觀察前紮實做，通常需要對其表面鍍一層金屬膜空間廣闊，以便減少觀察時(shí)產(chǎn)生的荷電，并增強(qiáng)二次電子或背散射電子信號提供深度撮合服務，獲得更好的信噪比服務品質。
配置為濺射鍍膜機(jī)或碳絲蒸發(fā)鍍膜機(jī)后，可以在全自動化系統(tǒng)中獲得*可重復(fù)的結(jié)果，實(shí)現(xiàn)了一臺EM ACE200具有噴金儀表現明顯更佳，噴碳儀狀態，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法指導，徠卡顯微系統(tǒng)在一臺儀器中提供可互換機(jī)頭的組合儀表廣泛認同。
各個(gè)選項(xiàng)，如石英晶體測量流動性、行星旋轉(zhuǎn)鍛造、輝光放電和可交換屏蔽共同構(gòu)成這臺低真空鍍膜機(jī)。
簡單方便持續創新。
徠卡低真空鍍膜儀Leica EM ACE200的主要技術(shù)參數(shù)：
· 可任選離子濺射模式改善、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式協調機製，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）
· 設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式信息化，可精確控制碳膜厚度
· 可選石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度實踐者，精度達(dá)0.1nm
· 全自動程序控制取得明顯成效，自動完成抽真空，鍍膜數據，放氣等過程
· 觸摸屏控制創新的技術，簡單方便
· 真空度7×10-3mbar
· 濺射電流：0-150mA可調(diào)
· 方形樣品倉設(shè)計(jì)，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）
· 工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm
Leica EM ACE200為您帶來的優(yōu)勢
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*重現(xiàn)的結(jié)果運(yùn)行自動化的進(jìn)程顯著，并協(xié)助參數(shù)設(shè)置快速增長。 | 小巧緊湊設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小節(jié)省了實(shí)驗(yàn)室空間性能。 |
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容易清洗具備可拆卸門初步建立、卷簾、內(nèi)部屏蔽組建、光源各有優勢、載物臺。 | 操作簡便直觀的觸摸屏和一鍵式操作重要的意義。 |
