国产一级一级理论片一区二区_久久综合图区亚洲综合图区_国产精品V欧美精品av日韩_日韩精品成人在线_亚洲欧美日韩动漫_国产精品一二三区在线观看公司_日韩成人无码一区二区三区

梓夢(mèng)科技邀您參加2025年精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇

<梓夢(mèng)科技>

2025年7月24-25日在東莞喜來(lái)登大酒店舉辦2025年全國(guó)精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇（第三屆），本次論壇將邀請(qǐng)產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)更多的合作機會、科研院所和行業(yè)投資機(jī)構(gòu)等延伸，圍繞精密研磨拋光的磨料制備技術(shù)、工藝創(chuàng)新服務好、拋裝備研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用等方面進(jìn)行專題交流新趨勢，為中國(guó)精密制造再上一個(gè)臺(tái)階做出貢獻(xiàn)。

隨著半導(dǎo)體集成電路講實踐、醫(yī)療器械和航空航天等產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展和升級(jí)數字技術，核心精密零件對(duì)表面粗糙度與面型精度的要求已經(jīng)達(dá)到了亞納米甚至原子量級(jí)。精研與拋光是影響精密零件可靠性與精確性的核心后道過(guò)程，精密研磨拋光技術(shù)正經(jīng)歷從材料研發(fā)到工藝創(chuàng)新的全面革新措施。

由于大的顆粒磨料會(huì)對(duì)晶圓表面產(chǎn)生刮痕大大縮短，從而導(dǎo)致整體質(zhì)量下降，CMP拋光液要求盡量降低大顆粒的數(shù)量更高要求，對(duì)梓夢(mèng)科技而言越來越重要的位置，此次交流會(huì)是展示如何檢測(cè)CMP拋光液中大顆粒的好機(jī)會(huì)。

 會(huì)上共同學習，梓夢(mèng)科技也將為大家提供LPC大顆粒計(jì)數(shù)系統(tǒng)順滑地配合、CMP平坦化粒度、粒形分析技術(shù)效高，精準(zhǔn)定制化半導(dǎo)體大顆粒解決方案前沿技術。

?                      LPC 大顆粒計(jì)數(shù)分析儀/ZM-02

產(chǎn)品介紹：

大顆粒計(jì)數(shù)分析儀是采用光阻法原理設(shè)計(jì)生產(chǎn)的顆粒計(jì)數(shù)器，其主要的功能是用來(lái)測(cè)試CMP Slurry藥液中顆粒數(shù)量等性能，如二氧化硅多種方式、氧化鈰、氧化鋁等藥液技術創新。ZM-02產(chǎn)品可以按照要求查看任意通道顆粒的數(shù)量深入交流研討，如1μm、2μm廣泛應用、5μm等關註度。

技術(shù)特點(diǎn)：

ü                      檢測(cè)方式：離線或在線

ü                      數(shù)據(jù)通道: 1024個(gè)

ü                      自定義通道: 64個(gè)

ü                      數(shù)據(jù)濃度上限可達(dá)1x 10

ü                      檢測(cè)范圍廣，0.5μm - 400μm

ü                      模塊化設(shè)計(jì)哪些領域，便于升級(jí)及維護(hù)

ü                      全自動(dòng)進(jìn)樣敢於挑戰、自動(dòng)稀釋、自動(dòng)檢測(cè)建立和完善、自動(dòng)清洗提供了遵循、數(shù)據(jù)分析

對(duì)于黏度較高的樣品，大顆粒計(jì)數(shù)分析儀ZM-02可實(shí)現(xiàn)一鍵式操作大型，快速識(shí)別出漿料中高風(fēng)險(xiǎn)的大顆粒服務效率，無(wú)需人工稀釋操作，減少了測(cè)量誤差重要意義，更不需要人工清洗主要抓手，大大提高檢測(cè)效率。

?                      CMP粒形分析儀/M3000

產(chǎn)品介紹：

粒形分析儀是采用動(dòng)態(tài)圖像法原理設(shè)計(jì)生產(chǎn)的顆粒計(jì)數(shù)器服務，其主要的功能是用來(lái)測(cè)試CMP Slurry藥液中顆粒數(shù)量很重要、顆粒形狀、不同形狀顆粒的數(shù)量濃度等覆蓋，如二氧化硅異常狀況、氧化鈰研究、氧化鋁等藥液。

不同形狀的顆粒對(duì)拋光效果和良率有明顯差異應用創新，粒形的控制是Slurry生產(chǎn)過(guò)程需要控制的重要參數(shù)提高。

技術(shù)特點(diǎn)：

ü                      檢測(cè)方式：離線或在線

ü                      全自動(dòng)稀釋，無(wú)需人工稀釋

ü                      用于CMP Slurry中顆粒濃度檢測(cè)

ü                      數(shù)據(jù)濃度上限可達(dá)1x 109 /ml

球形度數(shù)據(jù)

頓度數(shù)據(jù)

粒形分析儀M3000尤其適用于CMP拋光液生產(chǎn)企業(yè)對(duì)“球形度”的特性、“鈍度”等參數(shù)的管控交流，可直接觀察漿料的形狀大小，可有效調(diào)整生產(chǎn)工藝提供堅實支撐，從而提高產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率還不大。在未來(lái)的精密研磨拋光領(lǐng)域，粒形分析儀M3000有望助力企業(yè)在市場(chǎng)中占據(jù)更有利的地位信息化技術。

結(jié)語(yǔ)

梓夢(mèng)科技建立了完善的售后服務(wù)體系發揮作用，為客戶提供多方位的支持。無(wú)論是儀器的安裝調(diào)試逐步顯現、操作培訓(xùn)銘記囑托，還是后續(xù)的維修保養(yǎng)、技術(shù)升級(jí)自動化裝置，都有專業(yè)的團(tuán)隊(duì)及時(shí)響應(yīng)和處理示範，為半導(dǎo)體企業(yè)提供精準(zhǔn)定制化半導(dǎo)體大顆粒解決方案。