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技術(shù)文章
研磨發展邏輯、拋光兩用機(jī)
點(diǎn)擊次數(shù)：1274 發(fā)布時(shí)間：2014-12-8
本機(jī)為雙盤，雙速研磨有所提升，拋光兩用機(jī)聽得進，左盤560轉(zhuǎn)，右盤1000裝重要的作用。該機(jī)通過雙盤以及不同的研磨拋光介質(zhì)來實(shí)現(xiàn)用戶的粗磨更多可能性、精磨、粗拋足夠的實力、精拋光制樣過程緊迫性，本機(jī)操作簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)實(shí)用更適合，是中小企業(yè)理想的金相制樣設(shè)備高效。
主要特點(diǎn)及配件：
雙盤，雙速高質量發展，左盤560轉(zhuǎn)/分鐘全方位，右盤1000轉(zhuǎn)/分鐘
工作電壓220V，50HZ
冷卻裝置
深圳市瑞思遠(yuǎn)科技有限公司
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