1.3  金屬

半導(dǎo)體工藝中常見的金屬雜質(zhì)有鐵優化服務策略、銅關規定、鋁、 鉻 兩個角度入手、鎢 建強保護、鈦 、鈉 生產效率、鉀 使命責任、鋰等 ，這些雜質(zhì)的來源主要有：各種器皿使用、管道 合規意識、化學(xué)試劑，以及半導(dǎo)體圓片加工過程中有效性，在形成金屬互連的同時創新內容，也產(chǎn)生了各種金屬污染。這類雜質(zhì)的去除常采用化學(xué)方法進(jìn)行廣泛關註，通過各種試劑和化學(xué)藥品配制的清洗液與 金屬離子反應(yīng)善於監督，形成金屬離子的絡(luò)合物，脫離圓片表面。

1.4  氧化物

半導(dǎo)體圓片暴露在含氧氣及水的環(huán)境下表 面會形成自然氧化層更合理。這層氧化薄膜不但會妨礙 半導(dǎo)體制造的許多工步適應能力，還包含了某些金屬雜 。

PMT-2液體顆粒計(jì)數(shù)儀采用英國普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測傳感器各方面，雙精準(zhǔn)流量控制-精密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng)防控，可以對清洗劑、半導(dǎo)體著力提升、超純水深刻內涵、電子產(chǎn)品傳遞、平板玻璃融合、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測和分析，目前是英國普洛帝分析測試集團(tuán)向水質(zhì)領(lǐng)域及微納米檢測領(lǐng)域的重要產(chǎn)品相關性。