What is Zeta Potential /什么是Zeta電位數字化？
什么是Zeta電位？
Zeta電位是液體中懸浮的粒子很接近表面位置的靜電勢1基礎上。Zeta電位(ζ)是由膠體中粒子與粒子間的相互作用造成的各領域，因此它可以用來預(yù)測膠體體系里粒子聚集的穩(wěn)定性。圖1顯示了懸浮在液體中的粒子及其周圍的各種概念區(qū)域保持競爭優勢。Zeta電位指的是液體中滑動(dòng)面或者剪切面的電位進行培訓。在這個(gè)滑動(dòng)平面內(nèi)，當(dāng)液體在這個(gè)邊界外自由運(yùn)動(dòng)時(shí)長效機製，它與粒子結(jié)合在一起法治力量。遠(yuǎn)離粒子的凈電勢(在液體中)為零。
圖1懸浮在液體中的帶負(fù)電的粒子及其周圍的各種概念區(qū)域
PS：這個(gè)是另外的一種說法分享，但是要描述的內(nèi)容是一樣的共享；
由于分散粒子表面帶有電荷而吸引周圍的反號(hào)離子，這些反號(hào)離子在兩相界面呈擴(kuò)散狀態(tài)分布而形成擴(kuò)散雙電層方式之一。根據(jù)Stern雙電層理論可將雙電層分為兩部分生動，即Stern層和擴(kuò)散層。Stern層定義為吸附在電極表面的一層離子(IHP or OHP)電荷中心組成的一個(gè)平面層創新能力，此平面層相對遠(yuǎn)離界面的流體中的某點(diǎn)的電位稱為Stern電位新品技。穩(wěn)定層(Stationary layer) (包括Stern層和滑動(dòng)面slipping plane以內(nèi)的部分?jǐn)U散層) 與擴(kuò)散層內(nèi)分散介質(zhì)(dispersion medium)發(fā)生相對移動(dòng)時(shí)的界面是滑動(dòng)面(slipping plane)，該處對遠(yuǎn)離界面的流體中的某點(diǎn)的電位稱為Zeta電位或電動(dòng)電位(ζ-電位)廣度和深度。
測Zeta電位為什么不能稀釋深入交流？
在水相介質(zhì)中，Zeta電位通常是由于粒子表面的離子離解而產(chǎn)生的加強宣傳，在表面附近留下一個(gè)被反離子云包圍的凈電荷臺上與臺下。各種類型的離子可以通過滑動(dòng)面擴(kuò)散進(jìn)來和出去用的舒心，滑動(dòng)面允許Zeta電位根據(jù)液體中的離子組成而變化，例如pH值品牌。離子也可以通過參與滑動(dòng)面內(nèi)的化學(xué)反應(yīng)深入開展，從而影響Zeta電位。樣品稀釋可以顯著地改變Zeta電位等形式，因?yàn)殡x子可以吸附或者解析顆粒技術的開發。因此，Zeta電位可以是正的或負(fù)的飛躍，也可以是零(等電點(diǎn)更高效，IEP)，這取決于液體(溶劑)的pH值或離子的類型和濃度重要部署。
測量Zeta電位的方法
顆粒過濾系統(tǒng)可能受益于較低的Zeta電位水平具體而言，因?yàn)榫奂w粒更容易去除。大多數(shù)其他膠體系統(tǒng)需要較高的Zeta電位智慧與合力，例如超過+/- 20毫伏喜愛，以大限度地提高殼體壽命。當(dāng)顆粒和涂層表面具有相反的極性時(shí)開放要求，涂層往往更有效向好態勢。Zeta電位通常不能直接測量。例如服務機製，不能將伏特計(jì)探頭靠在粒子表面上以測量其表面電位貢獻力量。相反，Zeta電位是通過電泳測量來計(jì)算的大幅拓展，電泳測量是在外加電場下測量粒子速度發行速度，也就是通過粒子移動(dòng)并測量其粒子遷移率(見yh-tek。與時俱進。com/mas)性能。因此，計(jì)算出的Zeta電位取決于這些計(jì)算中使用的理論綜合運用，即粒子遷移率與Zeta電位的關(guān)系組建。另一種測量大顆粒或表面電位的方法是將液體移到靜止的顆粒深度、纖維或表面上，然后測量產(chǎn)生的流動(dòng)電位核心技術體系。
電位滴定法測量Zeta電位和PH的關(guān)系
電位滴定法可用于測定樣品的等電點(diǎn)開拓創新。如上所述，IEP可能是可取的或者相反必然趨勢。電位滴定圖可以顯示Zeta電位與pH值之間的關(guān)系變化促進善治。這樣的測量使制造商通過酸或堿的使用擴大，優(yōu)化產(chǎn)品的運(yùn)輸和儲(chǔ)存。圖2顯示在Ludox TM二氧化硅樣品上自動(dòng)添加1N HCl時(shí)發揮效力，Zeta電位及電導(dǎo)率的變化新格局。該過程是由美國MAS公司生產(chǎn)的超聲電聲法粒度及Zeta電位分析儀Zeta-APS設(shè)備完成的。圖2顯示安全鏈，在pH<4時(shí)顯示，Zeta曲線接近一個(gè)穩(wěn)定區(qū)域，而電導(dǎo)率增加得更快真正做到。這表明科普活動，隨著pH值的降低，二氧化硅顆粒逐漸被H+離子飽和強化意識。當(dāng)更多的H+離子停留在連續(xù)的水溶劑中時(shí)長期間，電導(dǎo)率增加得更快，而不是通過滑面向顆粒表面擴(kuò)散現場。
圖2通過自動(dòng)電位滴定法將1N HCl加入到10%體積的Ludox TM二氧化硅溶液中
體積滴定法測定Zeta電位和添加劑的關(guān)系
Zeta-APS儀器還能夠執(zhí)行自動(dòng)體積滴定高端化，即將表面活性劑等試劑以1μL的劑量添加到膠體中。Zeta-APS隨后生成滴定圖我有所應，顯示Zeta電位提單產、pH值、電導(dǎo)率和溫度與添加的試劑體積的關(guān)系圖能力建設。如果添加的表面活性劑未被顆粒吸附關註，則它沒有提供改變電位的粒子1-2，則Zeta與試劑體積的關(guān)系圖將是穩(wěn)定的無障礙。
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