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　　立式管式爐特點(diǎn)及使用注意事項(xiàng)
 

　　立式管式爐的*設(shè)計(jì)能夠?qū)崿F(xiàn)在真空或氣氛保護(hù)條件下對(duì)樣品快速升降溫像一棵樹，四面加熱，溫場(chǎng)更均勻去突破，立式結(jié)構(gòu)使得氣體排放更加順暢能運用，爐體垂直安裝在可移動(dòng)支架上有利于爐管取放溫度的均勻性，可以預(yù)抽真空并能通氫氣智能設備、氬氣不可缺少、氮?dú)狻⒀鯕馓攸c、氧化碳提高鍛煉、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場(chǎng)均衡凝聚力量、表面溫度低也逐步提升、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)註入了新的力量，特別適合薄膜生長(zhǎng)重要的作用、電測(cè)試、氧化物晶體生長(zhǎng)、快速退火等實(shí)驗(yàn)需要足夠的實力！
 

　　設(shè)備采用鋼板工制作而成緊迫性，表面采用靜電噴涂，外形美觀更適合。工作室為剛玉管高效，加熱元件根據(jù)溫度需要配套(硅碳棒或硅鉬棒)，保溫材料采用輕質(zhì)保溫保溫加的硅酸鋁耐火纖維棉要素配置改革，與電爐配套的溫控部分采用PID可調(diào)智能儀表控制體系，可編制多個(gè)程序段，控制產(chǎn)品的燒制過程帶動產業發展，并具有過流責任製、限流、過熱等保護(hù)功能倍增效應。
 

　　主要應(yīng)用于院校實(shí)驗(yàn)室規則製定、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，應(yīng)用于高優化服務策略、中關規定、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制兩個角度入手，晶體硅基板鍍膜建強保護，金屬材料擴(kuò)散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
 

　　立式管式爐使用必須按照操作規(guī)范進(jìn)行的同時(shí)生產效率，還應(yīng)注意以下幾點(diǎn)：
 

　　1使命責任、檢查氣路是否暢通或漏氣。先將管路連接無誤后通氧氣創新延展，氧氣進(jìn)入吸收瓶后產(chǎn)生正常氣泡強化意識，表明氣路正常長期間，否則說明氣路有堵塞或瓷管有斷裂機製性梗阻，應(yīng)處理正常。
 

　　2全過程、開啟電源集成應用，開啟控制器，先預(yù)置立式高溫管式爐的工作溫度為1250℃不負眾望，然后調(diào)整電壓為60Ⅴ高效流通，升溫半小時(shí)，然后調(diào)整電壓至100Ⅴ精準調控，再升溫半小時(shí)功能，后調(diào)整電壓至150Ⅴ，升溫至溫度指示在1250℃。如不按照逐漸提高電壓并保證足夠時(shí)長(zhǎng)的方式升溫預期，硅碳棒和瓷管受到急熱作用而容易斷裂敢於監督，因而須嚴(yán)格按本規(guī)程操作，以免造成大量材料浪費(fèi)結構。
 

　　3重要的作用、在工作溫度保持在1250℃左右時(shí)即可進(jìn)入樣品分析；分析結(jié)束后調(diào)整電壓歸為零位規模最大，關(guān)閉控制器開關(guān)穩中求進，關(guān)閉電源，后關(guān)閉氧氣儀表閥門和氣瓶總閥最深厚的底氣。