雙電橋法是目前測量金屬電阻應用廣泛的一種方法十分落實。
它用于測量小電阻(10-2~10-6Ω)倍增效應。圖4.2-6繪出了雙電橋電路圖促進善治。和單電橋相比看出，分路ABC中串聯(lián)了兩個高電阻R1和R2多樣性，這和單電橋相同。所不同處是：被測電阻Rx和標準電阻RN之間加人另一個并聯(lián)支路EDF新格局，其中串聯(lián)了兩個大電阻R3和R4明顯，并將檢流計的一個接點連接在R3和R4之間的D點。電橋平衡是通過調節(jié)四個高電阻R1顯示、R2創新為先、R3和R4來實現的。在電橋設計上科普活動，每個高電阻通常大于50Ω創新延展，且R1=R3，R2=R4,并還需要在結構上保持R1與R3成聯(lián)動長期間，R2與R4成聯(lián)動基本情況。同時要使連接Rx與RN之間的導線EF的電阻盡可能地小。如此就可使電橋中的分路電流I1和I2很小全過程，而I3相對大得多集成應用。測量時調節(jié)可變電阻，使檢流計中無電流通過不負眾望，即在電橋達到平衡時可以導出
根據上式高效流通，R1、R2和RN為已知精準調控，即可求出被測電阻RX值功能。為提高被測電阻值的精que度，測量時盡可能使R1R2之比接近于1解決，RN接近Rx預期。
圖4.2-6 雙電橋測量原理示意圖
從上述電路原理，可以分析出雙電橋法的兩個顯著優(yōu)點：附加電阻的影響很小以及能靈敏地反映被測電阻微小的變化集成技術。在圖示電流方向的情況下就能壓製，在分電路EDF中，D點被l2R3+I2Ro(Ro為附加電阻)所決定適應能力，由于I2很小更優美，Ro
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